檢索結果:共1筆資料 檢索策略: "材料科學與工程系".dept (精準) and ckeyword.raw="銅製程"
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本論文主要研究方向為利用氧化物(鈧酸鈥,HoScOx)非晶薄膜作為擴散阻障層以提升銅鍍層在矽上的高溫穩定性質。結果顯示HoScOx(x=3~4)具有高溫穩定性且為非晶薄膜,其結晶溫度高達900℃以上…